早在1958年9月12日,世界上第一枚芯片就被制造了出来。制造者是美国德州仪器公司的工程师杰克·基尔比,那时他没有光刻机,甚至也没有用到硅片,而是在一块锗晶上做出了几个晶体管、电阻器和电容器,组成了一个移相振荡电路。
这枚芯片非常粗糙,它与我们的手机芯片有着天壤之别。但它已经传达了芯片的基本概念:半导体材料制成的集成电路。
“半导体材料”就是其中的锗,“集成电路”则意味着它将晶体管、电容器、电阻器等多个电子元器件集成在了同一块锗晶圆上,实现“单片集成”的想法。
这便是芯片的发明,也是最初的芯片制造过程。芯片的开端看起来很简单,但它已经为现代芯片制造将要面对的问题埋下了伏笔:如何将电路图“复刻”到半导体晶圆片上?如何实现各元件之间的互连与隔离?如何利用半导体材料的导电特性使其发挥功能?
所有的问题,构成了60多年来芯片制造翻越的一座座高山,而如今,人们正面临“先进制程”的新壁垒。
如何理解“先进制程”的壁垒?简单而言,如果把芯片比作一幢别墅,晶体管就相当于别墅里的家具。为了把更多的家具塞进别墅,人们把家具造得越来越小。1958年,基尔比可以用双手制造出这些家具,2023年,人类能够熟练运用光刻机制造3nm“大小”的家具。
挑战之下,制造技术的革新必须是链条式的。光刻机光源波长缩短到13.5nm,机器内部就要保证真空环境使光源不被吸收,用了几十年的透镜也得被替换成特制的反射镜,接收光源的光刻胶也必须提高灵敏度……光源所到之处,一切都随着它的变化而同步革新。
这样一场从头到脚的大换血耗费了17年与无法计量的金钱,但最先进的技术仍将在不久的未来到达极限。
科学家和工程师们脑海中创造性的思想火花还未停下,也不能停下。因为芯片错综复杂的电路设计中,凝聚的是设计者的创新梦想。抛开所有专业术语,芯片与建筑相似的另一点在于,它们都是设计者创意的物理实现。如果没有制造技术使其落地,所有的创意只能是一种空中楼阁。
制造一枚芯片的过程,不仅是一次接一次科技的飞跃,更是一场造梦与圆梦的旅程。
三个环节,上千道工艺
基尔比的集成电路以锗晶圆为“底座”,这是受限于当时晶体管研发成果的权宜之计,他原本的集成电路构想,就是和现代芯片的制造一样,将所有元件都集成在硅片上。
芯片的制造从硅开始,制造流程可以简单地划分为三个环节:晶圆制造、芯片制造和芯片的封装与测试。而实际的制造流程则要比“三个环节”繁复得多,例如最为困难的前道工艺芯片制造环节,就涉及光刻、刻蚀、掺杂、沉积、抛光、清洗等多个步骤,缺一不可,且其中有些步骤需要反复操作上百次。
但不论有多少工序,最终的目的都是一个,把硅片变成芯片,在半导体材料上实现芯片的功能。芯片的功能与基本运作原理,是串联起这上千道工序的逻辑线索。
所以,我们首先不得不问,芯片要实现什么功能?
作为一块集成电路,芯片中的核心元件是晶体管。而晶体管和它的“前辈”真空管一样,都是一种电子开关,这意味着它们都能在内部控制单向电流,并实现电信号的开关、整流和放大。
在晶圆上盖房子,得先将设计图纸印在其表面。这一过程更像是在微观世界里摄影,而相机是一台价值数亿美元的光刻机。
半导体材料独特的导电性能,使其有了成为“开关”的条件。之所以称之为“半导体”,是由于其导电能力既远远小于铜线等导体,又远远大于绝缘体。天生我材必有用,电子开关仿佛是半导体的本职。20世纪40年代以来,随着真空管发热严重、故障频发、体积过大等问题的出现,科学家们亟需找到一种更小巧、快速且稳定的替代品,由半导体制成的晶体管便应运而生。
硅是目前芯片制造中最常用的基底材料。事实上,纯净的硅是电中性的,但若是在硅中掺杂杂质,就能改变其导电性能。
发现硅的这种特殊性能,是一次极其幸运的偶然。1940年,美国贝尔实验室的研究人员沃尔特·布拉顿与拉塞·奥尔发现,用手电筒照射一根硅棒时,其内部产生了单向电流。这是人们首次在半导体内部发现单向电流。
电流的出现源于硅的不纯净。布拉顿发现,硅棒的一侧混入了带正电荷的杂质,形成P(Positive)型硅,另一侧混入了带负电荷的杂质,形成N(Negative)型硅,而硅棒的两者交界处,形成了PN结。光照的能量打开了能量的“闸门”,使交界处的电子从能量高的一侧流向另一侧,单向电流得以产生。
因此,如果在PN结插入电极控制“闸门”,就能实现信号的开关与放大。硅与杂质恰到好處的掺杂,也成为制作硅晶体管的重要环节之一。
那么,硅从哪儿来?英特尔公司的芯片制造宣传片如此回答:从沙子中来。硅元素广泛存在于岩石、砂砾、尘土之中,构成地壳总质量的近四分之一。由于它储量丰富且易于获取,硅基半导体也自然成为了目前应用最广的半导体材料。
为了从沙子中提纯出硅,必须让它反复经过高温的洗礼,与焦炭、木炭、氯化氢气体等物质挨个亲密对话。沙子先分离出纯度98%-99%的工业硅,进一步提纯得到高纯多晶硅,然后从硅液中提拉出单晶硅棒。这是制作芯片“地基”的原材料。
既然是地基,平整度就相当重要。为此,从单晶硅棒到硅片,要承受多次抛光、打磨、化学溶液清洗。最终,从硅棒中切割出的硅晶圆片必须平整、光滑,没有工序中的杂质颗粒残留,才能为此后建造大厦打好基础。
在晶圆上盖房子,得先将设计图纸印在其表面。这一过程更像是在微观世界里摄影,而相机是一台价值数亿美元的光刻机。拍照需要借助光掩膜版,即一张刻有集成电路图的玻璃遮光板。
晶圆表面的显影要借助光刻胶,以正胶为例,光刻机发出紫外光透过光掩膜版照射到光刻胶表面时,没有与光接触的胶体仍然保持坚硬,被光照到的部分则会在后续的化学溶液中被侵蚀掉。通过光刻胶的一去一留,晶圆片上便印出了集成电路图案。

